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　　1、光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner) 匀胶机 /旋涂仪(Spin coater)MIDAS Systems Co., Ltd.公 司 介 绍第1页，共17页。槪要先容MIDAS SYSYEM首要研发和坐褥光罩光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)和匀胶机(Spin Coater)修筑。操纵范围涉及：半导体、平板显示、MEMS、生物元器件、纳米身手等光刻机/紫外曝光机是我司正在韩邦首度研发和商品化的产物，目前正在不懈地开垦完竣中，为企业垫定了坚实的身手底子。产物广大半导体考虑和坐褥、 平板显示考虑和坐褥、MEMS工序考虑及MEMS操纵商品坐褥、生物芯片考虑及纳米身手考虑范围。第

　　4、得到企业附设考虑所认证2001.06 韩邦首度研发和商品化Wafer用光刻机/紫外曝光机2002.12 注册研发投资危险企业2004.07 位于大德科技谷的公司办公楼兼工场新修完工安闲&起飞期2011.07 500mm大型光罩瞄准曝光机研发交货2011.07 得到MDA-60MS CE认证2011.10 含LED光源冷却模块的曝光机得到专利(第10- 1076193号)专利厅2011.12 搭载紫外线LED模块的光罩瞄准曝光机申请专利2012.06 开垦MDA-400LJ、MDA-150新型号。第4页，共17页。机闭图CEO常务董事韩邦营销外洋营销司帐人事、总务采购坐褥顾客援帮营销部料理部身手

　　5、总部考虑所策画质料规划第5页，共17页。光刻机/紫外曝光机是履行半导体显示屏等工艺中的光刻工艺体例,方针是正在晶圆片上变成众品种物质的图案.整个展现的体例是正在样品晶圆片上涂抹光刻胶后诈骗带图案的掩膜板,当光透过掩膜板照耀到光刻胶上时，光刻胶会爆发反映.之后举办显影和刻蚀最终取得念要图案.光刻机/紫外曝光机第6页，共17页。手动瞄准& 手动曝光半自愿瞄准& 自愿曝光手动瞄准& 自愿曝光型号光刻机/紫外曝光机MDA-400SMDA-60MS MDA-80SA/12SA 手动瞄准& 手动曝光MDA-400M第7页，共17页。身手规格光刻机/紫外曝光机 MDA-400MMDA-400SMDA-60MSM

　　9、 : PC把持手动 操作形式设定 : 调养 形式软件光刻机/紫外曝光机第11页，共17页。匀胶机是光刻工艺创造薄膜门径中行使最广博的修筑正在须要涂抹的样品外外滴上光刻胶,正在离心力的效用下，样品外外旋涂，创造出平均的薄膜. 为了取得平均的薄膜,遵循光刻胶的稠密度行使精确的配方旋涂.(如很众方法的转速与加快率设定)匀胶机 /旋涂仪第12页，共17页。型号匀胶机 /旋涂仪手动匀胶&单片衬底手动匀胶&单片衬底手动匀胶&单片衬底Spin-1200D/TSpin-3000D/ASPIN-3000T大尺寸匀胶 & 定造SPIN-5000A第13页，共17页。型号匀胶机 /旋涂仪 SPIN-1200D/TSPI

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